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AI军备竞赛触及原材料层,三条主线(附股)

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发表于 昨天 22:49 | 查看全部 |阅读模式
从锗、镓、石墨到稀土,再到磷化铟,管制边界正在向AI硬件最底层的原材料环节系统性延伸。AI军备竞赛从算力层、光互联层,已经打到原材料层了。

① 磷化铟(InP)——AI数据中心高速光互联直接卡脖子材料

InP是800G/1.6T硅光模块的核心衬底,数据中心光互联的增速已经超出硅光芯片产能的释放节奏,InP衬底供给本身就偏紧;叠加管制预期,将系统性推升备货需求与价格预期。光模块产业链中材料端的弹性,当前定价远不充分——中际旭创、新易盛、源杰科技等整链受益;InP衬底环节国内布局稀缺,建议持续跟踪。

② 六氟化钨(WF₆)——先进制程CVD沉积不可替代的工艺气体

WF₆是7nm以下节点钨栓塞(W-plug)沉积的核心前驱体,台积电、三星、英特尔先进制程每片晶圆都要消耗。中国已是WF₆主要生产国,一旦管制范围扩大,全球先进制程产能将直接承压。

③ 高纯氧化铝体系——HBM封装、导热填料、电子陶瓷的基础材料

HBM堆叠封装对Low-α球形氧化铝纯度要求极高;AI服务器导热填料(TIM)耗用量级随TDP上升快速扩张;电子陶瓷基板(MLCC、高频基板)对高纯粉体亦持续升级需求。

受益梯队:

第一梯队(InP光互联):云南锗业

第二梯队(特气WF₆):中船特气、昊华科技、凯美特气、雅克科技、中巨芯

第三梯队(氧化铝体系):天马新材、联瑞新材、壹石通

如果说磷化铟卡的是AI数据中心的光互联,六氟化钨卡的是先进制程沉积,那么Low-α球形氧化铝卡的就是HBM与先进封装的可靠性。

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